葉面積指數是果樹(shù)冠層生物學(xué)特征的一個(gè)重要參數，它可以影響果園的產(chǎn)量、品質(zhì)以及光能的截獲，在一定程度上決定了果園的生產(chǎn)效率。測量葉面積指數的方法有直接測量法和間接測量法，直接測量法具有破壞性，且費時(shí)費力、不能重復，操作困難難以測量葉面積的動(dòng)態(tài)變化等。間接測量法分為相對生長(cháng)法和光學(xué)法，應用比較廣泛。
    植物冠層分析儀就是屬于光學(xué)法的，特點(diǎn)是攜帶方便，不需要進(jìn)行額外的資料處理，可以直接給出葉面積指數值，原理是在假定植物冠層內的各元素隨機分布，依據冠層間隙度或光學(xué)特性反演葉面積指數。缺點(diǎn)是測量所得葉面積指數有著(zhù)較大的偏差。葉片的聚集效應越強，偏差越大。因此在測量時(shí)，一般需要用直接法校正。
    測量時(shí)根據果園的大小。分別設置3-5個(gè)測量點(diǎn)，在每個(gè)測量點(diǎn)再分別用方框取樣法和冠層分析法測量葉面積指數。方框取樣法是將方框隨機放在樹(shù)冠上，將方框內的的葉片全部摘下，用葉面積儀測量框內的葉面積，然后根據樹(shù)冠體積和栽植密度計算葉面積指數。測點(diǎn)的選擇與冠層分析儀方法相同。冠層分析儀是分別對應測量天空5個(gè)范圍的散射輻射，這5個(gè)范圍的中心視天頂角分別為7°、23°、38°、53°和68°，分別與冠層上部和下部測量輻射通透密度，并根據轉換模型估算葉面積指數。在每一個(gè)測點(diǎn)的冠層頂部測一次，下部重復測量6-10次，冠層下方的測量在同一水平面上，且在無(wú)直接輻射的條件下進(jìn)行。為了避免光環(huán)境迅速的變化對測量結果的影響，選擇無(wú)直接輻射的條件下進(jìn)行，然后用冠層分析儀附帶的軟件對測量的資料進(jìn)一步加工以校正估值葉面積指數。
    在密植園中，用方框取樣法測得的葉面積指數范圍在3.2-5.8之間，其平均值5.0±0.2；校正前用冠層分析儀估計葉面積指數在2.3-4.8之間，其平均值為3.3±0.2，冠層分析法低估了32.0%。校正后，冠層分析儀估計的葉面積指數范圍在2.5-5.2之間，其平均值為4.4±0.1，比校正前提高了33.3%，且通過(guò)校正冠層分析儀的估計值減少到了12.0%。在間伐園，用方框取樣法測得的葉面積指數在2.3-4.6之間，其平均值為3.6±0.2，而校正前用冠層分析儀估計葉面積指數在1.2-3.3，其平均值為2.0±0.2，冠層分析儀低估了35.5%。與密植園相比，間伐園的葉面積指數較小，通過(guò)校正后冠層分析儀的葉面積指數在1.4-3.9之間，其平均值為2.7±0.2，比校正前提高了35.0%,通過(guò)校正后減少到了12.9%。